EN

Leskelä, Markku: Atomikerroskasvatuksen (ALD) huippuyksikkö, Helsingin yliopisto

Huippuyksikössä tutkitaan ja kehitetään kemiaa ohutkalvojen valmistamiseen atomikerroskasvatusmenetelmällä (ALD). Näille ohutkalvoille haetaan sovelluksia mikroelektroniikasta, nanoteknologiasta ja energia-alalta.

Yksikkö koostuu Helsingin yliopiston Epäorgaanisen kemian ohutkalvoryhmästä, Materiaalifysiikan tutkimusryhmästä ja VTT Mikrojärjestelmien ja nanoelektroniikan osaamiskeskuksesta. Jokaisella kolmella ryhmällä on omat erityisosaamisensa ja tehtävänsä. Huippuyksikkö toimii laajassa kansallisessa ja kansainvälisessä verkostossa. Lisäksi meillä on hyvät suhteet alan teollisuuteen.

Tavoitteena on kehittää uusia ALD-prosesseja materiaaleille, joita hyödynnetään mikroelektroniikan eri komponenteissa, kuten muisteissa ja mikroelektromekaanisissa systeemeissä (MEMS), nanorakenteisissa aurinkokennoissa ja litium-ioniakuissa sekä erilaisissa optiikan ja optoelektroniikan komponenteissa.

Huippuyksiköllä on johtava asema maailmassa ALD-prosessien kehittäjänä, ja se yhdistää ainutlaatuisella tavalla kemian, fysiikan ja elektroniikan osaamista.

Lisätietoja

Huippuyksikön johtaja:
professori Markku Leskelä
Helsingin yliopisto, p. (09) 191 50195
etunimi.sukunimi(at)helsinki.fi

Huippuyksikön ryhmänjohtajat:
Jyrki Räisänen, Helsingin yliopisto
Juhani Keinonen, Helsingin yliopisto
Jouni Ahopelto, VTT
Riikka Puurunen, VTT

Huippuyksikössä mukana: 
Helsingin yliopisto, VTT

Viimeksi muokattu 16.2.2015
Seuraa meitä:
FacebookSlideshareTwitterYoutube
VAIHDE 029 533 5000
KIRJAAMO 029 533 5049
FAKSI 029 533 5299
   
SÄHKÖPOSTI etunimi.sukunimi@aka.fi
AUKIOLO Arkisin 8.00-16.15
   
HENKILÖHAKU »
YHTEYSTIEDOT, LASKUTUS  JA
REKISTERISELOSTEET»
KYSYMYKSET JA PALAUTE »