Leskelä, Markku: Atomikerroskasvatuksen (ALD) huippuyksikkö, Helsingin yliopisto

Huippuyksikössä tutkitaan ja kehitetään kemiaa ohutkalvojen valmistamiseen atomikerroskasvatusmenetelmällä (ALD). Näille ohutkalvoille haetaan sovelluksia mikroelektroniikasta, nanoteknologiasta ja energia-alalta.

Yksikkö koostuu Helsingin yliopiston Epäorgaanisen kemian ohutkalvoryhmästä, Materiaalifysiikan tutkimusryhmästä ja VTT Mikrojärjestelmien ja nanoelektroniikan osaamiskeskuksesta. Jokaisella kolmella ryhmällä on omat erityisosaamisensa ja tehtävänsä. Huippuyksikkö toimii laajassa kansallisessa ja kansainvälisessä verkostossa. Lisäksi meillä on hyvät suhteet alan teollisuuteen.

Tavoitteena on kehittää uusia ALD-prosesseja materiaaleille, joita hyödynnetään mikroelektroniikan eri komponenteissa, kuten muisteissa ja mikroelektromekaanisissa systeemeissä (MEMS), nanorakenteisissa aurinkokennoissa ja litium-ioniakuissa sekä erilaisissa optiikan ja optoelektroniikan komponenteissa.

Huippuyksiköllä on johtava asema maailmassa ALD-prosessien kehittäjänä ja se yhdistää ainutlaatuisella tavalla kemian, fysiikan ja elektroniikan osaamista.

Professori Markku Leskelä, Helsingin yliopisto, p. (09) 191 50195, markku.leskela(at)helsinki.fi

Huippuyksikössä mukana: Helsingin yliopisto, VTT